LPCVD設(shè)備 青島福潤(rùn)德

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青島福潤(rùn)德微電子設(shè)備有限公司

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詳細(xì)參數(shù)
品牌其他型號(hào)LPCVD設(shè)備
類(lèi)型其他加工定制
規(guī)格尺寸其他

產(chǎn)品詳情

滿足半導(dǎo)體集成電路,電力電子器件,光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積SiO2、Si 3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。 CVD系統(tǒng)性能特點(diǎn):
結(jié)構(gòu)形式:1—4管臥式熱壁型
硅片規(guī)格:2—8英寸硅片(或125×125mm、156×156mm方片)
溫度范圍:300~1100℃
恒溫區(qū)長(zhǎng)度及精度:200ram—1000mm(±1℃/24h)
淀積薄膜均勻性:片內(nèi)±5%   片間±5%   批間±5%
沉積膜厚度:600~15000A
系統(tǒng)極限真空度:優(yōu)于1Pa
工作壓力范圍:20~133Pa閉環(huán)控制
控制方式:工業(yè)微機(jī)
送料裝置:懸臂推拉舟、軟著陸系統(tǒng)
淀積薄膜分類(lèi):Si 3N4、SiO2、PSG、Poly-Si膜
真空泵:羅茨泵、機(jī)械泵
工藝氣路:5路氣/管。VCR接口
40KHz脈寬調(diào)制AE高頻電源
裝片量:200片/舟

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