PECVD設備,青島廠家源頭發(fā)貨

數(shù)量(臺) 價格
1 1.00元/臺
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  • 發(fā)貨地址: 山東 青島市
  • 發(fā)布日期:2024-09-24
  • 訪問量:89
咨詢電話:136-0642-6381
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青島福潤德微電子設備有限公司

實名認證 企業(yè)認證
  • 聯(lián)系人:張琪
  • 手機:13606426381
  • 電話:86-13606426381
  • 營業(yè)執(zhí)照:已審核 營業(yè)執(zhí)照
  • 經(jīng)營模式: 生產(chǎn)加工-私營有限責任公司
  • 所在地區(qū):山東 青島市
  • 家家通積分:848分
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詳細參數(shù)
品牌福潤德型號福潤德
類型其他加工定制
規(guī)格尺寸其他

產(chǎn)品詳情

滿足半導體集成電路,電力電子器件,光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積Si O2、Si 3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。


CVD系統(tǒng)性能特點:


結構形式:1—4管臥式熱壁型
硅片規(guī)格:2—8英寸硅片(或125×125mm、156×156mm方片)
溫度范圍:300~1100℃
恒溫區(qū)長度及精度:200mm—1000mm(±1℃/24h)
淀積薄膜均勻性: 片內(nèi)±5%      片間±5%      批間±5%
沉積膜厚度:600~15000A
系統(tǒng)極限真空度:優(yōu)于1Pa
工作壓力范圍:20~133Pa閉環(huán)控制
控制方式:工業(yè)微機
送料裝置:懸臂推拉舟、軟著陸系統(tǒng)
淀積薄膜分類:Si 3N4、Si02、PSG、Pply-Si膜
真空泵:羅茨泵、機械泵
工藝氣路:5路氣/管。VCR接口
40KFIz脈寬調(diào)制AE高頻電源
裝片量:200片/舟

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